II SA 3646/03

II SA 3646/03 - Wyrok WSA w Warszawie
Data orzeczenia
2004-10-21
orzeczenie prawomocne
Data wpływu
2003-09-30
Sąd
Wojewódzki Sąd Administracyjny w Warszawie
Sędziowie
Andrzej Wieczorek
Maria Jagielska /przewodniczący/
Stanisław Gronowski /sprawozdawca/
Skarżony organ
Urząd Patentowy RP
Treść wyniku
Uchylono zaskarżoną decyzję
Sentencja
Wojewódzki Sąd Administracyjny w Warszawie, w składzie następującym: Przewodniczący: Sędzia Sędziowie : Sędzia WSA Protokolant: po rozpoznaniu na rozprawie w dniu 21 października 2004 r. sprawy ze skargi S. C., Francja na z dnia [...] sierpnia 2003 r. nr [...] w przedmiocie odmowy udzielenia patentu na wynalazek 1. uchyla zaskarżoną decyzję oraz poprzedzającą ją decyzję z dnia [...] lutego 2002 r., 2. zasądza od Urzędu Patentowego RP na rzecz S. C., Francja kwotę 700,- (siedemset) złotych tytułem zwrotu kosztów postępowania
Uzasadnienie
Firma S. C., Francja, zwana dalej "zgłaszającym", w dniu [...] maja 1998 r. zgłosiła do Urzędu Patentowego RP, objęty międzynarodowym zgłoszeniem w trybie PCT, wynalazek pt. "Podłoże z powłoką fotokatalityczną". Przedmiotem wynalazku są podłoża na bazie szkła, a w szczególności podłoża przeświecające, które m.in. powodują efekt "odpychania wody deszczowej" lub efekt "odpychania brudu", co nadaje powierzchniom szklanym lepszą widzialność, a zarazem zmniejsza potrzebę czyszczenia tych powierzchni.
W świetle ostatecznej redakcji zastrzeżeń patentowych
1. Podłoże na bazie szkła, ceramiki lub ceramiki szklanej, wyposażone przynajmniej na części przynajmniej jednej ze swoich powierzchni czołowych w powłokę o właściwościach fotokatalitycznych, znamienne tym, że zawiera przynajmniej częściowo krystaliczny tlenek tytanu w postaci anatazu, otrzymany na drodze rozkładu termicznego jego prekursorów wybranych spośród związków organometalicznych tytanu albo halogenków tytanu oraz zawiera także materiał nieorganiczny w postaci amorficznego lub częściowo krystalicznego tlenku lub mieszaniny tlenków typu tlenku krzemu, tlenku tytanu, tlenku cyny, tlenku cyrkonu lub tlenku glinu, przy czym pod powłoką zawierającą tlenek tytanu znajduje się przynajmniej jedna cienka warstwa tworząca barierę dla migracji metali alkalicznych pochodzących z podłoża, przy czym grubość powłoki zawierającej tlenek tytanu wynosi od 5 nm do 1 mikrona.
2. Podłoże według zastrz. 1, znamienne tym, że tlenek tytanu krystalizuje w postaci anatazu, przy czym powierzchnia powłoki jest hydrofilowa, o kącie styku z wodą zwłaszcza mniejszym niż 5° po wy-stawieniu na promieniowanie świetlne.
3. Podłoże według zastrz. 1 albo 2, znamienne tym, że zawiera częściowo krystaliczny tlenek tytanu w postaci anatazu, przy czym średnie kwadratowe odchylenie chropowatości powłoki wynosi od 2 do 20 nm.
4. Podłoże według zastrz. 1 albo 2, znamienne tym, że zawiera także materiał nieorganiczny, zwłaszcza w postaci bezpostaciowego lub częściowo krystalicznego tlenku lub mieszaniny tlenków typu
tlenku krzemu, tlenku tytanu, tlenku cyny, tlenku cyrkonu lub tlenku glinu.
5. Podłoże według zastrz. 1 albo 2, znamienne tym, że powłoka zawiera dodatki zdolne do zwiększenia aktywności fotokatalitycznej dzięki tlenkowi tytanu, zwłaszcza przez zwiększenie pasma absorpcji powłoki oraz ewentualnie zwiększenie liczby nośników ładunków, przez domieszkowanie sieci krystalicznej tlenku lub przez domieszkowanie powierzchniowe powłoki, i ewentualnie przez zwiększenie wydajności i kinetyki reakcji fotokatalitycznych przez pokrycie przynajmniej części powłoki katalizatorem.
6. Podłoże według zastrz. 5, znamienne tym, że sieć krystaliczna tlenku tytanu jest domieszkowana, zwłaszcza przez przynajmniej jeden z pierwiastków metalicznych z grupy pierwiastków obejmującej niob, tantal, żelazo, bizmut, kobalt, nikiel, miedź, ruten, cer oraz molibden.
7. Podłoże według zastrz. 5, znamienne tym, że tlenek tytanu lub powłoka (3) pokryte są w całości katalizatorem, zwłaszcza w postaci cienkiej warstwy metalu szlachetnego typu platyny, rodu, srebra lub palladu.
8. Podłoże według zastrz. 5, znamienne tym, że w celu zwiększenia swojego pasma absorpcji powłoka zawiera pierwiastki metaliczne, zwłaszcza w postaci cząstek, takie jak pierwiastki należące do grupy obejmującej cynę, kadm, wolfram, cer lub cyrkon.
9. Podłoże według zastrz. 5, znamienne tym, że domieszkowanie powierzchniowe tlenku tytanu lub powłoki, która go zawiera, prowadzi się przez pokrywanie przynajmniej części powłoki warstwą tlenku metalu lub soli, przy czym metal należy do grupy metali obejmującej żelazo, miedź, ruten, cer, molibden, bizmut lub wanad.
10. Podłoże według zastrz. 1 albo 2, znamienne tym, że powierzchnia powłoki (3) jest hydrofilowa, o kącie styku z wodą zwłaszcza mniejszym niż 5° po wystawieniu na promieniowanie świetlne, i ewentualnie olejofilowa.
11. Podłoże według zastrz. 1, znamienne tym, że grubość powłoki (3) wynosi od 5 do 100 nm, korzystnie od 10 do 80 nm, a zwłaszcza od 20 do 50 nm.
12. Podłoże według zastrz. l albo 2, znamienne tym, że średnie kwadratowe odchylenie chropowatości powłoki (3) wynosi od 2 do 20 nm, a zwłaszcza od 5 do 20 nm.
13. Podłoże według zastrz. l albo 2, znamienne tym, że pod powłoką (3) o właściwościach fotokatalitycznych znajduje się przynajmniej jedna cienka warstwa (2) o działaniu antystatycznym, cieplnym lub optycznym albo tworząca barierę dla migracji metali alkalicznych pochodzących z podłoża (l).
14. Podłoże według zastrz. 13, znamienne tym, że cienka warstwa (2) o działaniu antystatycznym, ewentualnie z regulowaną biegunowością, i ewentualnie cieplnym i ewentualnie optycznym oparta opiera się na materiale przewodzącym typu metalu lub typu domieszkowego tlenku metalu, takiego jak ITO, SnO2:F, ZnO:ln, ZnO:F, ZnO:Al, ZnO:Sn lub tlenku metalu, który stechiometrycznie jest ubogi w tlen, taki jak SnO2-x lub Zn02-x, w których x < 2.
15. Podłoże według zastrz. 13, znamienne tym, że cienka warstwa (2) o działaniu optycznym opiera się na tlenku lub mieszaninie tlenków o współczynniku załamania światła pomiędzy współczynnikiem powłoki i współczynnikiem podłoża, należących do grupy tlenków obejmującej następujące tlenki: Al203, Sn02, In203, tlenowęglik krzemu lub tlenoazotek krzemu.
16. Podłoże według zastrz. 13, znamienne tym, że cienka warstwa (2) o działaniu barierowym dla metali alkalicznych opiera się na tlenku, azotku, tlenoazotku lub tlenowęgliku krzemu, na A1203 lub azotku glinu.
17. Podłoże według zastrz. 13, znamienne tym, że powłoka (3) stanowi warstwę końcową zespołu warstw przeciwolśnieniowych.
18. Sposób wytwarzania podłoża, znamienny tym, że powłokę (3) o właściwościach fotokatalitycznych nakłada się drogą pirolizy w fazie ciekłej, zwłaszcza z roztworu zawierającego przynajmniej jeden organometaliczny prekursor tytanu typu chelatu tytanu i ewentualnie alkoholanu tytanu.
19. Sposób według zastrz. 18, znamienny tym, że powłokę (3) o właściwościach fotokatalitycznych nakłada się techniką zol-żel, techniką nakładania przez zanurzanie lub powlekanie zanurzeniowe, powlekanie komórkowe, powlekanie natryskowe lub powlekanie typu laminarnego,
z roztworu zawierającego przynajmniej jeden metalo-organiczny prekursor tytanu typu alkoholanu tytanu.
20. Sposób według zastrz. 18, znamienny tym, że powłokę (3) o właściwościach fotokatalitycznych nakłada się drogą pirolizy w fazie parowej, CVD, z przynajmniej jednego prekursora tytanu typu halogenku lub metalo-organicznego.
21. Sposób według zastrz. 18 albo 19, albo 20, znamienny tym, że powłokę (3) o właściwościach fotokatalitycznych nakłada się przynajmniej w dwóch kolejnych etapach.
22. Sposób według zastrz. 18 albo 19, albo 20, znamienny tym, że powłokę (3) o właściwościach fotokatalitycznych poddaje się po nałożeniu przynajmniej jednej obróbce cieplnej typu odpuszczania.
23. Sposób wytwarzania podłoża według zastrz. 18, znamienny tym, że powłokę (3) zawierającą tlenek tytanu osadza się techniką próżniową, przy czym poddaj e się po nałożeniu przynajmniej jednej obróbce cieplnej typu odpuszczania.
24. Sposób według zastrz. 18, znamienny tym, że powłokę (3) zawierającą tlenek tytanu osadza się za pomocą reaktywnego lub niereaktywnego napylania katodowego, przy czym poddaje się po nałożeniu przynajmniej jednej obróbce cieplnej typu odpuszczania.
Decyzją Urzędu Patentowego z dnia [...] lutego 2002 r. odmówiono zgłaszającemu udzielenia patentu na wynalazek pt. "podłoże z powłoką fotokatalityczną" w kategorii podłoża oraz sposobu wytwarzania podłoża. Decyzja została wydana na podstawie art. 10 ustawy z dnia 19 października 1972 r. o wynalazczości (tekst jedn. Dz. U. z 1993 r. Nr 26, poz. 117). Stosownie do tego przepisu wynalazkiem podlegającym opatentowaniu jest nowe rozwiązanie o charakterze technicznym, nie wynikające w sposób oczywisty ze stanu techniki i mogące się nadawać do stosowania.
Uzasadniając swe stanowisko Urząd Patentowy powołał się na swe pismo z dnia [...] maja 2001 r., w którym powiadomił zgłaszającego, że projekt nie nadaje się do opatentowania w kategoriach "podłoża" oraz "sposobu wytwarzania podłoża", ponieważ wynika, jako rozwiązanie oczywiste, ze znanego stanu techniki (art. 10 ustawy o wynalazczości). W świetle europejskiego opisu patentowego nr [...] oraz z artykułu M.T. i innych ,, [...] " opublikowanego w [...] (1989) str. 243-246 znany jest bowiem sposób wytwarzania podłoża fotokatalitycznego opartego na dwutlenku tytanu naniesionego metodą pirolizy, znane są również własności uzyskanego przy tym podłoża. Z ww. artykułu (patrz np. str. 246 w. 3-17) wynika, że powłoka jest częściowo amorficzna, a w części wytworzona jest na niej warstwa anatazytu. Z ww. artykułu znane jest również wytwarzanie powłoki przy zastosowaniu różnego rodzaju związków metaloorganicznych.
W odniesieniu do podłoża z powłoką fotokatalityczną, zdaniem Urzędu Patentowego, przeciwstawione materiały ujawniają podłoża mające budowę analogiczną do zastrzeganej w treści zastrzeżenia nr 1. Cechami obligatoryjnymi podłoża według wynalazku jest nałożona przynajmniej na części podłoża powłoka fotokatalityczna oparta na dwutlenku tytanu, który jest co najmniej częściowo krystaliczny oraz z materiału nieorganicznego w postaci amorficznych lub częściowo krystalicznych tlenków. Z ww. materiałów znane są powłoki fotokatalityczne oparte na dwutlenku tytanu, przy czym dwutlenek tytanu występuje w podłożu w postaci krystalicznej jako anataz (patrz str. 246 ww. artykułu w. 3-8 oraz w. 28- 31). Na podkreślenie zasługuje przy tym, zdaniem Urzędu Patentowego, również fakt, że jak wskazują twórcy ww. opisu EPO nakładana na podłoże dyspersja tlenków tytanu zawiera dowolne tlenki tytanu (patrz str. 2 w. 45-47 oraz str.3 w. 22-24). Tlenek tytanu (wymieniony przez zgłaszającego w zastosowaniu jako nieorganiczny tlenek - jak w treści zastrzeżenia nr l - znany jest zatem ww. opisu.
W odniesieniu do sposobu wytwarzania podłoża z powłoką fotokatalityczną Urząd Patentowy stwierdził, że przedstawiony w rozwiązaniu według projektu sposób jest analogiczny do ww. znanego stanu techniki. W świetle ww. artykułu znane jest nanoszenie na powierzchnię szkła mieszaniny powlekającej przez natrysk ogrzanej do 700°C mieszaniny. Mieszanina ta stanowi układ powlekający będący kompozycją związku metaloorganicznego platyny (II), oraz związku dostarczającego dwutlenek tytanu (patrz str. 243 w/w artykułu szpalta lewa ostatni akapit).
Argumenty zgłaszającego nadesłane przy piśmie z dnia [...] września 2001 r. oraz załączona nowa redakcja zastrzeżeń patentowych nie zmieniły stanowiska Urzędu Patentowego. W piśmie z dnia [...] września 2001 r. zgłaszający nie ustosunkował się do zasadniczych zarzutów merytorycznych Urzędu Patentowego postawionych w piśmie z dnia [...] maja 2001 r. odnoszących się do składu podłoża fotokatalitycznego, któremu zarzucono brak nieoczywistości w świetle ww. artykułu. Stosownie do pisma Urzędu Patentowego z dnia [...] maja 2001 r., na które powołał się ten organ, znane są podłoża fotokatalityczne na bazie szkła, posiadające częściowo krystaliczny tlenek tytanu w postaci anatazu. Tlenek ten można otrzymać na drodze termicznego rozkładu prekursorów związków metalo - organicznych tytanu lub jego halogenków. Ponadto powłoka fotokatalityczna może zawierać materiał nie-organiczny jakim jest amorficzny tlenek tytanu. Wszystkie ww. cechy techniczne znane są z ww. artykułu oraz stanowią istotę zgłoszenia we-dług projektu w kategorii podłoża - zastrzeżenie nr 1.
W nowej redakcji zastrzeżenia nr 1 (z dnia [...] września 2001 r.) zgłaszający zamieścił dodatkowe informacje dotyczące podłoża, przy czym określił grubość powłoki tlenku tytanu od 5 nm do 1 mikrona. W świetle zaś ww. artykułu grubość powłok tytanowych badana była w szerokim zakresie (od O do 120 nm). Zatem, grubość warstwy nie stanowi nieoczywistej cechy technicznej charakteryzującej podłoże według projektu.
Drugą cechą techniczną włączoną do treści zastrzeżenia nr 1 jest konieczność stosowania dodatkowej cienkiej warstwy barierowej pod powłoką tytanu. Badając powtórnie zgłoszenie Urząd Patentowy stwierdził, że ww. cecha techniczna nie może być wzięta pod uwagę jako cecha obligatoryjna przy rozpatrywaniu budowy podłoża. W opisie projektu istnieje szereg przykładów wykonania (patrz przykłady nr 1,4 i 6), w których nie stosuje się tej dodatkowej warstwy barierowej, natomiast uzyskiwane efekty są równie dobre jak w przypadku stosowania tej warstwy. Z powyższego wynika, że dodatkowa warstwa barierowa nie jest dla podłoża według projektu elementem obligatoryjnym.
Urząd Patentowy zarzucił zgłaszającemu zamieszczenie w piśmie z dnia [...] września 2001 r. szereg nieprawdziwych informacji, sprzecznych z podanymi w ww. artykule (T.) danymi. I tak, według zgłaszającego, powłoka ujawniona w ww. artykule jest "czystą powloką TiOz", zgodnie zaś z podanymi informacjami powłoka ujawniona w ww. artykule stanowi powłokę tlenku tytanu domieszkowanego platyną. Ponadto zgłaszający podaje że otrzymana powłoka nie jest powłoką fotokatalityczną, co nie odpowiada rzeczywistości. Wreszcie, zdaniem zgłaszającego, powłoka znana z ww. artykułu ma grubość warstwy tlenku tytanu 50 nm, twierdzenie to nie pokrywa się z faktycznymi danymi (patrz abstract oraz str. 245 artykułu tablica n oraz wykresy Fig 5 i 6 z których wynika, że poddawane były badaniom powłoki fotokatalityczne Pt- Ti02 o różnych grubościach zdecydowanie niższych od 50 nm.). W powyższym artykule ujawniono powłokę wytworzoną w bardzo wysokiej temperaturze (700 C), która to temperatura jest znacznie wyższa niż punkt mięknięcia standardowej substancji szklanej. Zgłaszający ubiega się o objęcie ochroną patentową na podłoże na bazie szkła i innych materiałów, na które nałożona jest powłoka fotokatalityczna. Tymczasem w ww. artykule stosowne jest szkło Vycor jako podłoże pod powłokę fotokatalityczną. Z powyższego wynika, że zgłaszający ubiega się o ochronę na dowolne szkło stanowiące bazę powłoki fotokatalitycznej, w tym również na szkło Vycor. Nieuzasadniony jest więc powyższy argument zgłaszającego dotyczący rzekomych różnic w stosowanym szkle bazowym.
W odniesieniu do sposobu wytwarzania podłoża określonego zastrzeżeniem niezależnym nr 18 Urząd Patentowy podtrzymał stanowisko wyrażone w piśmie z dnia [...] maja 2001 r., że rozwiązanie wynika w sposób oczywisty ze znanego stanu techniki jaki stanowi ww. artykuł i opis patentowy EPO nr [...]. Piroliza, jak podkreślił Urząd Patentowy, stanowi proces rozkładu węglowodorów zachodzących w podwyższonej temperaturze (powyżej 600 C). Jest to proces stosowany przez autorów ww. artykułu. W artykule tym przedstawiono proces nakładania organometalicznych prekursorów tytanu na powierzchnię szkła Vycor przez powlekanie natryskowe połączone z jednoczesnym ogrzewaniem (do 700C), czyli jest to analogiczne postępowanie jak przedstawione w zastrzeżeniu niezależnym nr 18, o ochronę którego występuje zgłaszający w rozwiązaniu według projektu.
W następstwie wniosku skarżącego o ponowne rozpatrzenie sprawy Urząd Patentowy decyzją z dnia [...] sierpnia 2003 r. [...] utrzymał w mocy wcześniejszą decyzję z dnia [...] lutego 2002 r. Jak podkreślono zgłoszony projekt zawiera elementy znane w postaci powłoki fotokatalitycznej opartej na dwutlenku tytanu, przy czym dwutlenek tytanu występuje w podłożu w postaci krystalicznej jako anataz. Nakładana na podłoże dyspersja tlenków tytanu według opisu nr [...] zawiera dowolne tlenki tytanu, co wskazuje że tlenek tytanu wymieniony przez zgłaszającego w zastosowaniu jako tlenek nieorganiczny znany jest z w/w opisu. Świadczy to o oczywistości rozwiązania zgłoszonego do ochrony.
Urząd Patentowy utrzymał także decyzję w części dotyczącej sposobu, ponieważ zgłaszający w kolejnych wersjach zastrzeżeń nie uwzględnił przeciwstawionych materiałów.
W skardze na powyższą decyzję, wniesionej do Naczelnego Sądu Administracyjnego, skarżący zarzuca naruszenie art. 10 ustawy o wynalazczości, błędy w ustaleniach faktycznych przyjętych za podstawę rozstrzygnięcia oraz sprzeczność ustaleń z treścią rozstrzygnięcia. Jak podkreśla sporny wynalazek różni się zasadniczo od rozwiązań przedstawionych w cytowanych przeciwstawieniach. Artykuł T. ujawnia czystą powłokę TiO2, wytworzoną w bardzo wysokiej temperaturze (700 C), która jest znacznie wyższa niż punkt mięknienia standardowej substancji szklanej. Grubość tlenku tytanu jest tu zasadniczym parametrem i wynosi 50 nm. Powłoka ta nie jest fotokatalityczna. Natomiast sporne zgłoszenie ujawnia powłokę o grubości od 15 nm o znacznej aktywności fotokatalitycznej. Z powyższego przeciwstawienia nie można wywnioskować, że warstwa pod powłoką będzie wystarczająca w zapobieganiu migracji jonów metali alkalicznych pochodzących z podłoża. Nigdy przedtem nie ujawniono, że powłoka z tlenku tytanu musi być chroniona przed zanieczyszczeniami jonami metali alkalicznych. Udowodniono to w przykładach 4 i 5 oraz 1 i 2 spornego zgłoszenia. Przeciwstawiony europejski opis patentowy nr [...] przedstawia sposób wytworzenia cząstek dwutlenku tytanu, które następnie stosuje się do wytworzenia powłoki. A zatem, jest tu mowa o produkcie pośrednim. Cząstki, które już wykrystalizowały i już mają właściwości fotokatalityczne. Natomiast w spornym zgłoszeniu materiałem początkowym dla wytworzenia powłoki z dwutlenku tytanu są prekursory organometaliczne lub halogenki tytanu w przypadku osadzania za pomocą termicznej dekompozycji. Dwutlenek tytanu staje się fotokatalityczny in situ. To stanowi zasadniczą różnicę, ponieważ w przeciwstawieniu materiał początkowy jest już fotokatalityczny i nie ma tu potrzeby prowadzenia jego termicznej obróbki oraz nie potrzeba sprawdzać, czy TiO2 będzie dostatecznie krystaliczny.
Ponadto, na co wskazuje zgłaszający, wszystkie przykłady z EP [...] dotyczące powłoki tytanowej ujawniają bardzo grube powłoki (co najmniej 1 do 2 mikrometrów) w przeciwieństwie do grubości od 15 do 90 nm ze spornego zgłoszenia. Istotne jest, aby powłoka tytanowa miała grubość poniżej 1 mikrona. Kiedy jest bowiem bardzo gruba staje się mniej przezroczysta, o wiele bardziej odbija światło, trudniej ją wytworzyć, a ponadto nie jest odpowiednia dla glazurowania. EP [...] nie ujawnia warstwy pod powłoką, zapobiegającej migracji jonów metali alkalicznych pochodzących z podłoża.
Przeciwstawiony artykuł T. dotyczy powłoki wykonanej jedynie z tlenku tytanu domieszkowanej platyną. Powłoka ta jest bezpośrednio nanoszona na podłoże. Podłożem stosowanym tutaj jest bardzo specyficzne podłoże ze szkła Vycor, które jest ogrzewane w temperaturze 700 C, a następnie w temperaturze 900 C w ciągu dwóch godzin. Powłoka jest o charakterze amorficznym o grubości poniżej 50 nm, ma prawie niefotokatalityczne właściwości poniżej tej grubości progowej. Przeciwstawienie to nie wymienia dodatku tlenku krzemu lub tlenków metali do powłoki TiO2. Natomiast podłoże zawierające mieszaninę tlenków według spornego zgłoszenia jest bardzo korzystne jeśli chodzi o właściwości optyczne i trwałość. Zmniejsza się całkowity współczynnik refrakcji w porównaniu do czystej powłoki z tlenku tytanu.
Według zgłaszającego, dla zachowania wymogu zmniejszenia właściwości błyszczenia powłoki, nie jest oczywiste, że dodanie dodatkowego składnika SiO2 nie osłabi właściwości fotokatalitycznych warstwy powłoki. Korzystne jest także dla zwiększenia mechanicznej i chemicznej trwałości powłoki dodanie innego tlenku.
Czytając przeciwstawienie fachowiec nie zdaje sobie sprawy, że pierwiastki alkaliczne mogą być "truciznami" powłoki fotokatalitycznej. Sporny wynalazek wprowadza nową warstwę zapobiegającą dyfuzji tlenków alkalicznych z podłoża do powłoki fotokatalitycznej.
Zgłaszający podkreśla znaczenie chropowatości i hydrofilowości warstwy na potrzeby poprawienia właściwości fotokatalitycznych i odporności na plamienie, co rozwiązuje wynalazek.
Wojewódzki Sąd Administracyjny zważył, co następuje:
Z dniem 1 stycznia 2004 r. weszły w życie:
• ustawa z dnia 25 lipca 2002 r. Prawo o ustroju sądów admini-stracyjnych (Dz. U. Nr 153, poz. 1269), zwana u.s.a.,
• ustawa z dnia 30 sierpnia 2002 r. Prawo o postępowaniu przed sądami administracyjnymi, (Dz. U. Nr 153, poz. 1270), zwana p.s.a.,
• ustawa z dnia 30 sierpnia 2002 r. Przepisy wprowadzające usta- wę - Prawo o ustroju sądów administracyjnych i ustawę - Prawo o postępowaniu przed sądami administracyjnymi (Dz. U. Nr 153, poz. 1271), zwana p.w.u.p.
Jednocześnie uchylona została ustawa z dnia 11 maja 1995 r. o Naczelnym Sądzie Administracyjnym (Dz. U. Nr 74, poz. 368 ze zm.), która obowiązywała w dacie wniesienia skargi w niniejszej sprawie.
W świetle art. 97 § 1 p.w.u.p. sprawy, w których skargi zostały wniesione do Naczelnego Sądu Administracyjnego przed dniem 1 stycznia 2004 r. i postępowanie nie zostało zakończone, podlegają rozpoznaniu przez właściwe wojewódzkie sądy administracyjne na podstawie przepisów ustawy - Prawo o postępowaniu przed sądami administracyjnymi. Taka sytuacja ma więc miejsce w niniejszej sprawie i dlatego postępowanie toczy się na podstawie p.s.a.
Zgodnie z art. 1 § 1 u.s.a. sądy administracyjne sprawują wymiar sprawiedliwości przez kontrolę działalności administracji publicznej, przy czym w świetle paragrafu drugiego powołanego wyżej artykułu kontrola ta sprawowana jest pod względem zgodności z prawem, jeżeli ustawy nie stanowią inaczej. Innymi słowy, wchodzi tutaj w grę kontrola aktów lub czynności z zakresu administracji publicznej dokonywana pod względem ich zgodności z prawem materialnym i przepisami procesowymi, nie zaś według kryteriów słusznościowych.
Kontrolując zaskarżoną decyzję z punktu widzenia powołanych wyżej kryteriów skarga zasługuje na uwzględnienie, gdyż zaskarżona decyzja narusza prawa w stopniu mogącym mieć wpływ na wynik sprawy.
Sporny wynalazek został zgłoszony w Urzędzie Patentowym przed wejściem w życie ustawy z dnia 30 czerwca 2000 r. - Prawo własności przemysłowej (Dz. U. z 2001 r. Nr 49, poz. 508 ze zm.), zwanej p.w.p. Ustawa ta weszła w życie w dniu 22 sierpnia 2001 r. Stosownie do art. 315 ust. 1 p.w.p. prawa w zakresie wynalazków, wzorów użytkowych, wzorów zdobniczych, topografii układów scalonych, znaków towarowych oraz projektów racjonalizatorskich, istniejące w dniu wejścia w życie ustawy, pozostają w mocy. Do praw tych stosuje się przepisy dotychczasowe, o ile przepisy niniejszego działu nie stanowią inaczej. Zgodnie zaś z art. 315 ust. 2 p.w.p. do stosunków prawnych powstałych przed dniem wejścia w życie ustawy stosuje się przepisy dotychczasowe. W świetle zaś art. 315 ust. 3 p.w.p. ustawowe warunki wymagane do uzyskania patentu, prawa ochronnego albo prawa z rejestracji ocenia się według przepisów obowiązujących w dniu zgłoszenia wynalazku, wzoru użytkowego, znaku towarowego albo topografii układów scalonych w Urzędzie Patentowym. Zatem, w świetle powyższych przepisów, ocena zdolności patentowej spornego wynalazku podlega przepisom ustawy z dnia 19 października 1972 r. o wynalazczości. Ponadto, co wymaga podkreślenia, z chwilą wejścia w życie przepisów p.w.p. postępowanie przed Urzędem Patentowym toczy się w trybie tych przepisów (art. 317 p.w.p.). Urząd Patentowy przy wydawaniu decyzji, tak pierwszo jak i drugoinstancyjnej, miał zatem obowiązek stosowania przepisów Kodeksu postępowania administracyjnego, o ile danej kwestii przepisy p.w.p. odmiennie nie regulowały (art. 252 p.w.p.).
Przepis art. 10 ustawy o wynalazczości określa przesłanki jakie powinien spełniać wynalazek podlegający opatentowaniu, a mianowicie:
1. posiadać przymiot nowości o charakterze technicznym,
2. posiadać poziom wynalazczy (nieoczywistość rozwiązania),
3. nadawać się do zastosowania w określonej dziedzinie techniki.
W sprawie nie jest kwestionowane przez Urząd Patentowy posiadanie przez sporny wynalazek przymiotu nowości o charakterze technicznym oraz zdolność do zastosowania go w przemyśle. Natomiast Urząd Patentowy, jak to już wskazano, podważył poziom wynalazczy rozwiązania zgłoszonego do ochrony. Zgłoszony wynalazek w ocenie wspomnianego organu w sposób oczywisty wynika ze znanego stanu techniki. Stanowisko Urzędu Patentowego w tym zakresie kwestionował skarżący.
Jak już wskazano na Urzędzie Patentowym spoczywał obowiązek stosowanie przepisów Kodeksu postępowania administracyjnego. Organ ten miał zatem obowiązek dokładnego wyjaśnienia stanu faktycznego sprawy, mając na względzie interes społeczny i słuszny interes obywateli (art. 7 k.p.a.), obowiązek wyczerpującego zebrania i rozpatrzenia całego materiału dowodowego (art. 77 § 1 k.p.a.), a także obowiązek uzasadnienia faktycznego decyzji zgodnie z wymogami określonymi w art. 107 § 3 k.p.a. Tych wszystkich wymogów, a w szczególności określonych w art. 107 § 3 k.p.a., nie spełnia zaskarżona decyzja. Mimo wysoce skomplikowanych zagadnień technicznych obrazujących istotę wynalazku, zastosowania w nim procesów technologicznych, przynajmniej nie w pełni opisanych w literaturze przedmiotu, a także uzyskania korzystniejszych parametrów użytkowych wynalazku, co dotyczy w szczególności znacznie cieńszej powłoki tytanowej podłoża a także poprawienia mechanicznej i chemicznej jej trwałości, w zaskarżonej decyzji ograniczono się jedynie do zdawkowego stwierdzenia, że zgłoszony projekt zawiera znane elementy, co czyni go tym samym oczywistym w świetle znanego stanu techniki. Takie uzasadnienie zaskarżonej decyzji nie pozwala na skontrolowanie prawidłowości stanowiska Urzędu Patentowego.
Istotnym mankamentem decyzji, zarówno pierwszo jak i drugoinstancyjnej, jest w swej istocie uchylenie się Urzędu Patentowego od powinności rozpatrzenia zgłoszonego wynalazku pod kątem jego nieoczywistości w świetle stanu techniki. Urząd Patentowy ograniczył się bowiem do zastosowania swoistego domniemania faktycznego, że skoro w wynalazku zastosowano elementy znanych rozwiązań, tym samym zgłoszony projekt jest oczywisty w świetle stanu techniki. Takie uzasadnienie mogłoby być jeszcze zrozumiałe, gdyby spornemu wynalazkowi postawiono zarzut braku nowości. Natomiast wspomniana argumentacja jest niewystarczająca dla uzasadnienia odmowy udzielenia patentu, gdy wynalazkowi stawia się zarzut braku spełnienia przesłanki nieoczywistości.
Przechodząc do spornej kwestii poziomu wynalazczego omawianego wynalazku brak jest obiektywnych w tej mierze kryteriów. Stwarza to konieczność dokonywania ustaleń na okoliczność poziomu wynalazczego wynalazku w oparciu o kryteria w dużej mierze subiektywne.
Metodą zmierzającą do ustalenia, czy wynalazek spełnia kryterium nieoczywistości jest ustalenie najbliższego stanu techniki, jako jednej lub kilku publikacji, na tle których specjalista najłatwiej doszedłby do wynalazku. Następnie formułuje się problem techniczny, poprzez określenie cech zastrzeganego wynalazku, które nie występują w najbliższym stanie techniki. Zabieg ten pozwala na ocenę postępu technicznego wnoszonego przez wynalazek. W rezultacie, w wyniku powyższych ustaleń, udziela się odpowiedzi na pytanie, czy specjalista znający najbliższy stan techniki, przy rozpatrywaniu problemu technicznego zastosowanego w wynalazku miałby możliwość bez dokonań twórczych, w sposób zawodowo rutynowy, dojść do zastrzeganego rozwiązania. Taką metodykę przyjęto na gruncie Konwencji o patencie europejskim w wytycznych EPO (zob. Stanisław Vasina, Zdolność patentowa wynalazku w europejskim prawie patentowym ze szczególnym uwzględnieniem przesłanki poziomu wynalazczego; “Wynalazczość i Ochrona Własności Intelektualnej", Regulacje w dziedzinie własności przemysłowej pod redakcją Alicji Adamczak, Zeszyt 26). W zaskarżonej decyzji nie przeprowadzono takiej analizy.
W literaturze (zob. Stanisław Sołtysiński [w:] Stanisław Sołty-siński, Andrzej Szajkowski, Tadeusz Szymanek, Komentarz do prawa wynalazczego; Instytut Prawa Przedsiębiorstw S.A. Wydawnictwo Prawnicze, Warszawa 1990, s. 36-39) podnosi się również, że pomysły agregaty i kompozycje, będące kompilacją znanych składników, należy oceniać całościowo. Zarzut oczywistości powinien być stawiany całemu rozwiązaniu, a nie tylko jego poszczególnym elementom, gdyż nawet połączenie znanych urządzeń czy metod postępowania może wymagać wkładu wynalazczego.
W tym stanie sprawy, uznając zasadność skargi, zaskarżona decyzja podlega uchyleniu (art. 145 § 1 pkt 1 litera c p.s.a.
O kosztach postępowania orzeczono na zasadzie art. 200 p.s.a.